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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSZ200-I-DC-AL
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備,采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜
詳情介紹:

桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備,采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜。其核心特點包括:

鋁合金真空腔體:輕量化設(shè)計,耐腐蝕性好,適合實驗室或小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境。

單靶配置:支持單一靶材(如金屬、合金或氧化物),結(jié)構(gòu)簡單,操作便捷。

磁控濺射技術(shù):利用磁場約束等離子體,提高濺射效率,形成均勻、致密的薄膜。

桌面設(shè)計:體積小巧,適合科研院所、高校實驗室等空間有限的場所。

應(yīng)用領(lǐng)域:

該設(shè)備廣泛用于材料科學(xué)、光學(xué)、電子等領(lǐng)域,具體包括:

光學(xué)薄膜:如增透膜、反射膜、濾光片等。

電子器件:半導(dǎo)體電極、導(dǎo)電薄膜(如ITO)、傳感器涂層。

功能材料:耐磨涂層(如TiN)、防腐涂層、超硬薄膜(類金剛石)。

科研實驗:新材料開發(fā)、薄膜性能測試、教學(xué)演示等。

磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號

CY-MSZ200-I-DC-AL

樣品臺

外形尺寸

φ50mm

旋轉(zhuǎn)

自轉(zhuǎn)+公轉(zhuǎn)角度傾斜2英寸

可調(diào)轉(zhuǎn)速

≦20rpm

磁控靶槍

配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm

真空腔體

腔體尺寸

φ180mm X 150mm

腔體材料

鋁合金

開啟方式

上蓋拆卸式

真空系統(tǒng)

真空測量

復(fù)合真空計,量程:10-5~105Pa

抽氣接口

KF25

系統(tǒng)真空

1.0E-1Pa(機(jī)械泵)

供電電源

AC 220V 50/60Hz

輸出功率

直流電源500W

其他參數(shù)

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

2kW

  

30kg

整機(jī)尺寸

385X450X420mm


豫公網(wǎng)安備 41019702002438號

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